第197章 涌向CK的暗流

    荷蓝，埃因霍温，阿斯唛（ASM）研发实验室。
    空气中弥漫着一种近乎凝固的兴奋，混合着精密仪器的特殊冷却液气味和咖啡的浓郁香气。
    巨大的洁净室内，一台庞大而复杂的机器，人类历史上第一台极紫外（EUV）光刻机原型机，正静静地矗立在中央，仿佛一头蛰伏的金属巨兽。
    虽然它此刻的晶圆良品率低得可怜，仅有30%，光源输出功率也忽高忽低，稳定性堪忧，远未达到商用标准，但这并不妨碍围绕它的研发人员们脸上洋溢着巨大的成就感和狂喜。
    突破了！
    他们真的突破了物理的极限，为摩尔定律的延续凿开了一道新的曙光！
    与已经十分成熟、但已逼近物理极限的深紫外（DUV）光刻机相比，这台EUV是通向7nm乃至更先进制程的全新道路。
    实验室的门滑开，阿斯唛总裁皮特·温尼克面带笑容地走了进来，立刻被热烈的掌声和欢呼包围。
    他热情地与每一位核心工程师握手，声音洪亮而充满感染力。
    “女士们，先生们！
    今天，你们创造了历史！
    这台机器，不仅仅是一台光刻机，它是人类智慧对抗物理法则的又一次伟大胜利！
    它证明了我们阿斯唛走在正确的道路上，证明了全球协作的力量！
    EUV的时代，将由我们一同开启！”
    狂欢的气氛被推向了高潮。
    香槟酒塞“嘭”地打开，泡沫四溅。
    在一片欢腾中，温尼克将EUV项目负责人，来自台机电的技术大拿闫涛南叫到了一旁相对安静的角落。
    温尼克脸上的笑容稍稍收敛，他需要了解更现实的情况。
    “闫，干得漂亮！
    但现在，我需要知道最真实的数据。
    如果我是说如果，我们的关键子系统被迫启用备用供应商，对良率的影响具体有多大？”
    闫涛南推了推眼镜，技术人的严谨让他迅速进入状态，语气清晰而准确。
    “温尼克先生，情况如下：
    光源系统：
    目前我们使用北美Cymer的LPP（激光等离子体）光源，能量转换效率达到5.5%。
    如果换用备用供应商得国TRUMPF的30kW二氧化碳激光器，其转换效率为3.42%，且稳定性稍逊。
    模拟结果显示，这会导致整体良品率下降约5%。
    光学系统：
    核心是得国蔡斯（ZEISS）的EUV反射镜，其表面粗糙度控制在惊人的0.1nm以内。
    如果启用备用方案，即霓虹尼糠（Nikan）和佳（）的组合，他们的镀膜工艺目前难以达到同等水平，可能会引入更高的缺陷密度。
    估算下来，反射镜缺陷率若从蔡斯的0.001个/平方厘米上升到0.03个/平方厘米，良品率将下降10%。
    对准系统：目前我们采用的是来自种（本章未完，请翻页）